预付有礼
会员权益
SEM系列
TEM系列
EPMA系列
AFM系列
EBSD系列
高端系列
组织形貌
成分含量
化学结构
物理性能
力学性能
光电磁声
试剂耗材
可靠性测试
同步辐射
CT测试
穆斯堡尔谱
三维原子探针
配方破解
失效分析
正电子湮灭
显微成像平台
显微成像-云现场
形态病理平台
细胞生物平台
分子蛋白平台
生理生化平台
微生物平台
动物实验平台
组学平台
材料加工
加工成型
热处理
切割成型
真空封管
球磨处理
项目推荐
项目介绍
样品要求
结果展示
预约须知
1. 样品尺寸：垂直溅射样品最大直径5cm、斜溅射最大直径10cm；如实验室没有靶源，需自行提供的靶材尺寸：直径6cm，厚度小于5mm；
2. 镀膜厚度小于几微米，纳米级别；
3. 具体试验要求请与技术顾问提前沟通，确认后再预约测试；
4. 如有其他疑问，请联系前期对接的技术顾问。
展开全部收起
项目介绍
磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁）之间施加直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使氩气发生电离。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。通过更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间，便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。
样品要求
1. 样品尺寸：垂直溅射样品最大直径5cm、斜溅射最大直径10cm；如实验室没有靶源，自行提供的靶材尺寸：直径6cm，厚度小于5mm；
2. 镀膜厚度小于几微米，纳米级别；
结果展示
镀膜后样品的微观照片
咨询热线
400-005-5990
