磁控溅射

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磁控溅射须知:

1.样品要求:小于样品台,样品台直径3.5cm;掩膜板的常用规格是5×5和5×10mm;

2.特别注意:需客户提供靶材,靶材直径要求不小于50mm,50-53mm最好,最好不要超过55mm,厚度3-5mm,不能太薄;功率最大80;金属靶材通氧气镀,也可以镀氧化物膜,但一般要升温镀,而且氧化比例不好控制;具体测试参数可以提前和测试老师沟通确认;

3.如有其他疑问,请联系前期对接的技术顾问


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常见问题

  • 用磁控溅射镀ITO薄膜时,溅射时间与薄膜厚度不成正比,总是在一个时间点后薄膜厚度会突然变薄,可能原因是什么?

    溅射的温度,压强,功率,温度压强功率过高,在溅射的过程中能量太高冲坏已经镀好的一层,会流失掉一些,所以厚度可能不会一直变厚;

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